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光刻膠的組成成分有哪些 光刻膠的原理

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摘要:光刻膠又稱光致抗蝕劑,在光刻工藝中,用作防腐蝕涂層材料。目前光刻膠廣泛用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路加工制作,是電子制造領域關鍵材料。光刻膠由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成,其原理包括光敏性原理、光學成像原理。

一、光刻膠的組成成分有哪些

光刻膠主要由感光劑(光引發(fā)劑)、聚合劑(感光樹脂)、溶劑與助劑構成。

1、光引發(fā)劑是光刻膠的最關鍵成分,對光刻膠的感光度、分辨率起著決定性作用。

2、感光樹脂用于將光刻膠中不同材料聚合在一起,是構成光刻膠的骨架,決定光刻膠包括硬度、柔韌性、附著力等基本屬性。

3、溶劑是光刻膠中最大成分,目的是使光刻膠處于液態(tài),但溶劑本身對光刻膠的化學性質幾乎沒影響。

4、助劑通常是專有化合物,由各家廠商獨自研發(fā),主要用來改變光刻膠特定化學性質。

二、光刻膠的原理

1、光敏性原理

光刻膠的基本原理是光敏材料暴露在紫外線下,光線將光敏材料中的分子激活,使其發(fā)生化學反應,使光敏膠發(fā)生預設的變化。根據(jù)光線能量的不同,光刻膠可分為UV光刻膠和深紫外光刻膠。UV光刻膠用于制造精度要求低的電子元件,而深紫外光刻膠則用于制造更微小的元器件。

2、光學成像原理

光刻膠是通過光學成像原理來實現(xiàn)預期的紋理結構。當光照射在光刻膠表面時,會通過掩膜上的白色區(qū)域透過黑色區(qū)域,達到將圖案映射到光刻膠上的目的。通過開發(fā)過程,只剩下光刻膠上所需的微型器件的部分區(qū)域,即可形成要制造的微型器件。

3、選擇適合的溶劑

光刻膠的成分包括光敏材料、單體、溶劑和劑量。反應關鍵因素之一是選擇適合系統(tǒng)的溶劑,溶劑是優(yōu)化反應速率和接觸角的關鍵因素。正確的溶劑選擇可確保強大的粘附力和最小的溶液浸透時間。

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