一、硅片清洗設備維修方法有哪些

1、換能器損壞：

分析：可能硅片清洗設備因長時間處于開機使用狀態(tài)，溫度會逐漸上升導致膠體融化換能器脫落或換能器陶瓷部分斷裂。

檢測和解決：用搖表測量換能器的絕緣強度，絕緣強度在200MΩ以下已無法使用，須換新的換能器。

換能器的內(nèi)部陶瓷也會由于長期使用出現(xiàn)斷裂，使其不能正常工作。

2、硅片清洗設備的保險損壞：

在開機后如發(fā)現(xiàn)無電源顯示，無動作，首先要看電源座內(nèi)保險是否損壞。

分析：有可能是用戶接地線與火線或零線混用，并沒有接地（本機地線是與機器外殼相連接），還有可能是硅片清洗設備短路，元器件老化出現(xiàn)短路現(xiàn)象，導致保險損壞。

檢測和解決：拿出保險觀看，有無斷裂，用萬用表通斷檔測量是否斷開，更換新器件。

3、硅片清洗設備的功率管損壞：

分析：主板上的功率管會因為超聲波清洗機長時間不間斷使用或清洗液體太少長時間使用，使功率管出現(xiàn)短路情況。

檢測和解決：當功率管在主板上連接式，用萬用表測量功率管兩側(cè)管腳的阻值，正常情況下應在22Ω左右。拿下功率管后（與主板斷開連接），測量其各個管腳間應是不通的。

二、硅片清洗設備怎么保養(yǎng)

硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的，而清洗后硅片表面的各種性能在一定程度上又由清洗設備本身決定，因此，對硅片清洗設備的日常監(jiān)控和維護就尤為重要。

1、進行日常的生產(chǎn)時，首先需準備少量潔凈的硅片（如10片），每天在進行正常的硅片清洗前，對該10個桂片進行清洗，且在清洗前后對該硅片進行表面顆粒的檢測，然后對測試結(jié)果進行分析。

如果發(fā)現(xiàn)清洗后硅片表面的顆粒數(shù)跟金屬沾污較清洗前減少或無明顯變化，則表面清洗設備工作正常，可以進行正常的硅片清洗；如果發(fā)現(xiàn)清洗后硅片表面顆粒數(shù)跟金屬沾污較清洗前明顯增加，則表明清洗機工作異常，需進行相應的維護。

針對此工作也可以根據(jù)生產(chǎn)的具體情況對其即進行SPC控制，即：顆粒去除數(shù)=清洗后顆粒數(shù)-清洗前顆粒數(shù)

2、硅片在清洗過程中，如發(fā)現(xiàn)硅片表面顆粒跟金屬沾污超標，則需進行如下處理：

（1）將各槽中原液排干，用DI水將槽子沖洗一次，然后將槽中水排盡。

（2）加入少許（lgallon）DI水，然后加入lgal-lonH2O2，再加入少許DI水，然后加工入lgallonNH4OH，再加DI水至槽滿。如果是工藝槽，則讓混合液循環(huán)2h，否則靜置2h。

（3）將槽中液排盡，用DI水再次沖洗槽子一次，將槽液排盡。

（4）重新對清洗設備進行測試。